El agente de reticulación TAIC es un monómero de olefina multifuncional que contiene heterociclos aromáticos. Se utiliza principalmente como agente reticulante y modificador para diversos fines.
1. Una variedad de modificadores de reticulación para termoplásticos (polietileno, cloruro de polivinilo, polietileno clorado, EVA, poliestireno, etc.). La reticulación térmica se añade generalmente al 1-3%, más el peróxido de dicumilo (DCP) es del 0,2-1%; la reticulación por radiación se añade al 0,5-2% y ya no se puede añadir DCP. Después de la reticulación, se pueden mejorar significativamente la resistencia al calor, la resistencia al fuego, la resistencia a los disolventes, la resistencia mecánica y las propiedades eléctricas del producto. En comparación con la reticulación del sistema de peróxido solo, puede mejorar significativamente la calidad del producto y no tiene un olor peculiar. Normalmente se utiliza en polietileno, polietileno / polietileno clorado, polietileno / EVA, cables reticulados y productos de polietileno de alta y baja espuma.
2. Un coadyuvante de vulcanización para cauchos especiales como caucho de etileno-propileno, varios cauchos fluorados, CPE, etc. (usado con DCP, la dosis general es 0.5-4%), que puede acortar significativamente el tiempo de vulcanización, mejorar la resistencia, el desgaste resistencia, resistencia a los disolventes, resistencia a la corrosión.
3. Agente reticulante de resina de intercambio iónico de tipo ácido acrílico y estireno. Tiene menos dosis y mayor calidad que el agente reticulante de divinilbenceno. Se puede preparar con anti-contaminación, alta resistencia, fuerza macroporosa, resistencia al calor, resistencia a ácidos y álcalis. Una resina de intercambio iónico con excelentes propiedades de oxidación. Se trata de un nuevo tipo de resina de intercambio iónico desarrollado recientemente en el país y en el extranjero con excelentes perspectivas.
4. Los modificadores como el poliacrilato y el acrilato de polialquilo pueden mejorar significativamente la resistencia al calor, el rendimiento óptico y el rendimiento del proceso. Por lo general, se utiliza para la modificación resistente al calor de plexiglás ordinario.
5. Modificador de resina epoxi y resina DAP (ftalato de dialilo), que puede mejorar la resistencia al calor, la adhesión, la resistencia mecánica y la estabilidad dimensional, y se usa típicamente en compuestos de relleno epoxi y modificación del encapsulante.
6. Agente reticulante y modificador para poliéster insaturado y poliéster termoplástico, que puede mejorar significativamente la resistencia al calor, la resistencia química, la estabilidad dimensional, la resistencia a la intemperie y las propiedades mecánicas. Por lo general, se usa para mejorar la resistencia al calor de productos FRP de poliéster insaturado prensados en caliente, y la temperatura de uso de los productos modificados puede alcanzar más de 180 ° C.
7. El isocianurato de homopolímero-politrialililo de TAIC&es una resina de aislamiento eléctrico transparente, dura, resistente al calor y excelente. También se puede utilizar para unir vidrio y cerámica. Normalmente se utiliza para fabricar cristales de seguridad multicapa.
8. El plastificante interno de poliestireno, la modificación de copolimerización de estireno y TAIC, etc., pueden producir productos transparentes y resistentes a roturas.
9. Agente protector para la resistencia al calor del metal, la resistencia a la radiación y la resistencia a la intemperie. El prepolímero TAIC se hornea sobre la superficie del metal y su película de horneado tiene muy buena resistencia al calor, a la radiación, a la intemperie y al aislamiento eléctrico. Normalmente se utiliza en la fabricación de materiales aislantes como placas de circuito impreso para productos microelectrónicos.
10. Intermedios tales como revestimientos fotoendurecibles, fotorresistente, retardante de llama y agente de reticulación retardante de llama. Por lo general, se utiliza para sintetizar TBC retardante de llama de alta eficiencia y agente de reticulación retardante de llama DABC.